Die neuen Prozessoren werden in der zweiten Generation der High-k und Metal Gate Transistor-Technologie gefertigt. Dabei verwendet Intel die 193nm-Immersionslithographie für die kritischen Schichten auf dem Chip, um die Kristallgitter des Siliziums künstlich zu strecken, wodurch leistungsfähigere Transistoren und somit schnellere Prozessoren möglich werde.Seit 4 Jahren verfolgt Intel nun erfolgreich die Tick-Tock Strategie. Danach will Intel jedes Jahr neue Prozessor-Architekturen und Strukturverkleinerungen bei der Produktion verwenden.
Quelle: Intel GmbH
10.12.2008, 15:48
Uhr
, von
Benjamin Schwarz
Core i7 Nachfolger Westmere in 32nm Technologie
Intel liegt laut eigenen Angaben gut in der Zeit bei der Entwicklung der 32nm Prozessoren. Die Entwicklungsphase der nächsten Fertigungsprozess-Generation sei schon erfolgreich beendet. So wird Intel voraussichtlich im 4. Quartal 2009 die ersten Core i7 Nachfolger produzieren. Der Westmere Prozessor wird in der 32nm Technologie gefertigt und soll so noch Energieeffizienter und Leistungsfähiger werden.